CICA REPAIR After Sun Korean Mask - päevitusjärgne taastav biotselluloosist mask, 1tk
CICA REPAIR After Sun Korean Mask - päevitusjärgne taastav biotselluloosist mask, 1tk
Taastava toimega päevitusjärgne biotselluloosist mask. Valmistatud nanokiududest, 100% loodusliku ensüümide fermentatsiooni tulemusel. Rikastatud Centella Asiatica ekstrakti ja peptiididega. Mask tugevdab naha kaitsebarjääri, vähendab punetust, niisutab ja annab kohese mugavustunde, millel on pikaajaline järelmõju. Nahk on jälle pehme ja siidine.
Pealevõtmise saadavust ei õnnestunud laadida
Kasutamine
Kasutamine
Eemaldage kaitsekile, asetage mask puhtale nahale, eemaldage teine kaitsekiht maskilt ja laske toimida 15-30 min. Ei vaja loputamist.
Koostis
Koostis
Aqua (Water/Eau), 1,2-Hexanediol, Dipropylene Glycol, Betaine, Propanediol, Methyl Gluceth-20, Panthenol, Glycereth-26, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Allantoin, Arginine, Glycerin, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Sodium Hyaluronate, Xanthan Gum, Disodium EDTA, Butylene Glycol, Dipotassium Glycyrrhizate, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Centella Asiatica Extract, Palmitoyl Tripeptide-5, Clitoria Ternatea Flower Extract, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin
